Nhà máy oxy PSA để sản xuất chất bán dẫn

Độ tinh khiết oxy:Sản xuất chất bán dẫn thường yêu cầu oxy có độ tinh khiết cực cao, thường yêu cầu đạt 99,999% hoặc thậm chí cao hơn để đảm bảo chất lượng và hiệu suất của sản phẩm bán dẫn.
Tốc độ dòng oxy:Theo quy mô sản xuất và yêu cầu quy trình sản xuất chất bán dẫn, thiết bị oxy PSA cần cung cấp tốc độ dòng oxy ổn định để đáp ứng nhu cầu oxy liên tục trong quá trình sản xuất.
Nhiệt độ điểm sương:Độ ẩm trong oxy được yêu cầu phải cực kỳ thấp và nhiệt độ điểm sương thường được yêu cầu dưới - 60 độ để ngăn độ ẩm ảnh hưởng xấu đến quá trình sản xuất chất bán dẫn.
Hàm lượng tạp chất hạt:Hàm lượng tạp chất dạng hạt trong oxy phải được kiểm soát chặt chẽ, thường yêu cầu phải dưới 0,1 micron, để tránh các tạp chất dạng hạt gây ra khuyết tật trên bề mặt chip bán dẫn.

Quá trình oxy hóa là một bước cơ bản và quan trọng trong nhiều quá trình liên kết sản xuất chất bán dẫn. Ví dụ, trong quá trình oxy hóa của tấm silicon, cần có oxy có độ tinh khiết cao để tạo thành lớp silicon dioxide (SiO₂). Lớp silicon dioxide này có thể được sử dụng làm lớp cách nhiệt hoặc làm mặt nạ cho các quá trình tiếp theo. Oxy có độ tinh khiết cao được cung cấp bởi thiết bị oxy PSA (thường có độ tinh khiết lên tới 99,999% hoặc thậm chí cao hơn) có thể đảm bảo tính chính xác và ổn định của phản ứng oxy hóa, do đó lớp silicon dioxide được tạo ra có chất lượng đồng đều và độ dày chính xác. rất quan trọng để sản xuất các thiết bị bán dẫn hiệu suất cao (chẳng hạn như bóng bán dẫn trong mạch tích hợp).